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专利择要显示,本发明供应了大面积弧形微构造阵列芯片及其制备方法与单细胞精准力学剖析方法及装置。该芯片的制备方法包括:光刻胶层的制备、光刻剂量标准化测试、光刻剂量关系剖析、光刻微构造加工和芯片的制备。本发明的大面积弧形微构造阵列芯片是通过该方法制得的。该单细胞精准力学剖析方法包括探针加载及探针台防液密封、隔振及光源加载、探针参数校准与仪器校正、细胞限位芯片细胞加载、细胞限位芯片装载、细胞生理环境加载、探针‑细胞定位和力学测试与数据采样。该装置用于实现该单细胞精准力学剖析方法。本发明制备了运用于单细胞精准力学剖析的大面积弧形微构造阵列细胞限位芯片,并将其成功运用于单细胞力学剖析。
本文源自金融界

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