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Reticle，中文称之为:光罩（别名MASK，又称掩模版）。Reticle上承载着芯片每一层的设计图形。通过光学事理，将设计图形映射在光刻胶上，为了和以前打仗式曝光系统用的光罩（MASK）进行区分，常日将投射式曝光系统用的光罩，称之为 Reticle（倍缩式掩模)。
下面我们看看光罩示意图，如下，
光罩一样平常为6英寸，大小为:152mm152mm，个中图像的尺寸最大为104mm132mm，图像紧张由高质量的石英玻璃组成，厚度一样平常为0.25英寸。由于石英玻璃的透光率好，膨胀系数低，是常规玻璃的1/20。
光罩一样平常分为两种：BIM，PSM。
BIM: (Binary Intensity Mask )双极性掩模。
一样平常我们说的BIM指的是早期的COG, NTAR7 属于BIM里COG的一种。
OMOG属于高阶版的BIM。
PSM: (Phase Shift Mask )相位翻转掩模。
由于BIM的光罩在图形尺寸变小的情形下会有一些 side effect涌现，以是涌现啦PSM。
PSM分为两种：
Att.PSM(强度衰减PSM，Attenuated PSM），
Alt.PSM(交替相移光罩，Alternating PSM）。
下面，我对光罩的分类进行下总结，如下：
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