长鑫存储取得掩模赞助图案设置方法及掩模版专利关键图案能够准确完整的转印到光刻胶上_图案_光刻

专利择要显示，本发明涉及一种掩模赞助图案设置方法及掩模版，供应光刻掩模图案，光刻掩模图案具有关键图案；将光刻掩模图案分为多个区块；确定关键图案在光刻掩模图案中所在的区块；将关键图案所在的区块对应的光刻掩模图案的边界，作为紧张边界；将除紧张边界之外的边界作为次要边界；设定光学附近改动的优先级，将紧张边界设置为第一优先级，次要边界设置为第二优先级，个中，第一优先级高于第二优先级；根据优先级设置赞助图案，在临近具有第一优先级的紧张边界的区域中设置赞助图案的第一优先子图案。
本发明能够担保在所有关键图案的周围均设置有赞助图案，提高了关键图案的工艺窗口，关键图案能够准确完全的转印到光刻胶上。

本文源自金融界