中微公司的刻蚀机的确水平一流，但浮夸阐述其计策意义，则被干系专家反对。刻蚀只是芯片制造多个环节之一。刻蚀机也不是对华禁售的设备，在这个意义上不算“卡脖子”。
首先，生手随意马虎稠浊“光刻机”和“刻蚀机”。光刻机相称于画匠，刻蚀机是雕工。前者投影在硅片上一张风雅的电路图(就像摄影机让胶卷感光)，后者按这张图去刻线(就像刻印章一样，堕落和去除不须要的部分)。
光刻机是芯片制造中用到的最金贵的机器，要达到5纳米曝光精度难比登天，ASML公司一家通吃高端光刻机；而刻蚀机没那么难，中微的竞争对手还有运用材料、泛林、东京电子等等，国外巨子体量上风明显。
“中微的等离子刻蚀机这几年进步确实不小，”科技日报采访的一位从事离子刻蚀的专家说，“但现在的刻蚀机精度已远超光刻机的曝光精度；芯片制程上，刻蚀精度已不再是最大的难题，更难的是担保在大面积晶圆上的刻蚀同等性。”
该专家阐明说，难在如何让电场能量和刻蚀气体都均匀地分布在被刻蚀基体表面上，以担保等离子中的有效基元，在晶片表面的每一个位置实现相同的刻蚀效果，为此须要综合股料学、流体力学、电磁学和真空等离子体学的知识。
该专家说：“刻蚀机更合理的构造设计和材料选择，可担保电场的均匀分布。刻蚀气体的馈入办法也是关键之一。据我所知，中微尹志尧博士的团队在气体喷淋盘高下过不少的功夫。其余包括功率电源、真空系统、刻蚀温度掌握等，都影响刻蚀结果。”
其余，该专家也指出，刻蚀机技能类型很多，中微和他们的技能事理就有很大差异，至于更详细的技能细节，是每个厂家的核心机密。
顺便一提：刻蚀分湿法(古代人就懂得用强酸去刻蚀金属，当代工艺用氟化氢刻蚀二氧化硅)和干法(如用真空中的氩等离子体去加工硅片)。“湿法涌现较早，一样平常用在低端产品上。干法一样平常是能量束刻蚀，离子束、电子束、激光束等等，精度高，无污染残留，芯片制造用的便是等离子刻蚀。”该专家称。
上述专家夸奖说，尹博士以及中微的核心技能团队，基本都是从国际有名半导体设备大厂出来的，尹博士原来就在国外得到了诸多的技能造诣。中微不断提高改进，逐步在芯少焉蚀机领域保持了与国外险些同步的技能水平。
在IC业界事情多年的电子工程师张光华见告科技日报：“一两年前网上就有中微研制5纳米刻蚀机的宣布。如果能在台积电运用，的确解释中微达到天下领先水平。但说中国芯片‘弯道超车’便是浮夸其词了。”
“硅片从设计到制造到封测，流程繁芜。刻蚀是制造环节的工序之一，还有造晶棒、切割晶圆、涂膜、光刻、掺杂、测试等等，都须要繁芜的技能。中国在大部分工序上掉队。”张光华说，“而且，中微只是给台积电这样的制造企业供应设备，产值比台积电差几个数量级。”
科技日报创造，2017年开始网络上常常热炒“5纳米刻蚀机”，而中微公司几次再三抗议媒体给他们“戴高帽”。
“不要老把家当的发展提高到政治高度，更不要让一些新闻人和媒体搞吸引眼球的不实报导。”尹志尧2018年表示，“对我和中微的浮夸宣扬搞得我们很被动……过一些时候，又洗面革心登出来，实在让我们头痛。”(高 博)
