现在要想实现下一代的芯片制造，国产光刻机仅有的那一步便是超过至浸润式光刻机的第五代了。
在半导体领域，我国一贯都是不断努力赶超天下前辈水平的一个国家，这也是国之重器，为我国的高科技家傍边做出的造诣。
可是为什么我国的光刻机发展已经掉队于国际10多年之久呢?
美国和中国的光刻机发展。
实在早在光刻机在半导系统编制造发展起来的最开始的时候，我国与美国的光刻机还是相实力相称的。
然而后来在半导体家当的发展过程中，光刻机技能便成为了半导体家当发展的“瓶颈”，终极使得环球的半导体家当发展慢了下来。
美国便是为理解决这方面的问题，投入了巨额的资金用来研发光刻机的技能。
而我国由于刚刚开始走半导体家当这条道路，尚未具备强大的研发能力，以是选择了购买国外的光刻机设备，用于半导体芯片的生产。
正是这方面的缘故原由，我国的光刻机技能已经掉队于国际数十年，甩开了我国这个巨大的“短板”。
而且随着美国光刻机技能不断更新，呈现出ASML公司的EUV光刻机技能，这项技能的分辨率已经达到了3nm。
这也造成我国EUV光刻机乃至还没生产出来，就已经被这种技能甩开好几个“台阶”，直接使我国的光刻机处于被动的局势了。
由于正在利用的国产光刻机是第四代的ArF，而EUV光刻机已经是第五代的浸润式光刻机了。
可以这样说，现在我国的光刻机离半导体芯片的制程只差末了一步了，这一步不仅是技能上的提升，还有制造出一台的问题。
而且这台设备的制造涉及到浩瀚的领域的领悟，个中最为核心的就属物镜系统了。
所谓的物镜系统便是光刻机中最为繁芜的部件之一，其浸染便是将芯片设计图形成投射到硅片中，完成芯片的制造。
物镜系统是光刻机中的核心技能，一台光刻机中拥有50%的零部件便是物镜系统，其多达2000多个，个中包括800个光学零部件和1400个机器零部件，系统涉及到光学、机器、电子等领域专业技能。
可以说如果一台光刻机想要实现7nm的芯片制造，其物镜系统就必须能够达到7nm的分辨率，这对付工艺的掌握非常的严格。
而这便是我国面临的最大的问题。
由于海内早期研发的缺失落，导致如何节制制造微米级光刻设备的关键技能已经成为我国一项急需办理的重中之重的问题了。
而如今，科技已经不断在发展的，我国的机器技能、光学技能发展都打破了以往的困境，以是我国要制造出7nm的光刻机便不是问题了。
而我国的物镜系统上也已经有了比较不错的办理方案了。
国产光刻机量产的障碍点。要想生产出我国的光刻机只有真正打破浸润式光刻机的制造就可以了。
浸润式光刻机与前几代的光刻机比较，它的浸染便是使光的折射率可以变小，让成像的分辨率可以变小，从而可以使芯片的线宽更细。
而要想打破，就离不开物镜系统。
我国的物镜系统中，最为关键的零部件便是光刻机的镜头。
这个镜头，对付光的透过性哀求很高，同时对付镜片的表面精度哀求也很高。
只有具备这样的条件，才能担保光能够自由的投射在硅片上，不会被光学系统其它零部件阻挡，从而形成详细的图形。
在我国光学领域中，对付光学镜片的加工还是处在掉队的状态。
无论是德国的蔡司还是日本的尼康，都是天下上有着技能领先的光学镜片的生产商，而我国的光学镜片的加工技能比较之下还是差了一些。
这是由于我国在科技方面还处在非常掉队的发展阶段，而且光学技能本身的研究就须要花费大量的资金。
以是我国在这方面的研究资金毕竟有限，要想与国外的光学技能相差不大，还须要我国在这方面的投入不断的加大。
而且在制造方面，我国要想生产出一台光刻设备，首先就要完成国产的物镜系统，但是这一步便是国产光刻机的难产点。
物镜系统的制造不仅须要很高的光学精度，更须要对光学加工技能，硬件加工技能方面要极为专业，要达到电子加工中的几十毫米级别的精度，这对付机床设备也是有非常高的哀求的。
而在智能加工的方面上，我国能够做到，战胜的技能难点很多。
这样的难点就使我国的光刻机的制造大大掉队于强大国家，导致我国光刻机的量产仍旧是一个很大的难题。
但是我国也不是一贯待在这个时期的瓶颈上了，当下我国的光刻机技能正处于奋起直追的状态。
国产光刻机如何做到七纳米。浸润式光刻机的制造已经不在是我国技能的最大的难点了，物镜的生产是我国制造国产光刻机的最大难点。
然而随着我国科技的不断发展，个中就包括光学领域，我国对付光学薄膜的加工技能已经具备了相比拟较高的技能能力。
正是这一方面的上风，我国就有能力去研发生产物镜，从而使光刻机的发展超过至浸润式的第五代的阶段。
这样，我国就可以独家研发光刻机，而不用再对标国外的光刻机技能了，这样我国的自主可控的能力将得到一定的打破。
我国于此，只要实现了第五代的光刻机，就可以实现7nm的芯片制程了，而且有望实现更加风雅的5纳米的芯片制程。
而且浸润式光刻机的研发实现后，除了对付芯片的制造有影响外，对付光学、机器方面的技能也会走向实用化。
对付物镜系统来说，这便是我国的一次重大的打破，对付我国的光学、机器行业来说，也是相称重大利好。
而且这一打破，还将带动我国全体半导体家当链的升级，将传导好的行业效应。
在机器设备方面，将会大大推动模具、机床、机器人、车联网方面的发展。
在材料方面，将会推动集成电路、光伏等行业的发展。
由于半导体家当是数字经济、智能经济的根本，而光刻机作为半导体家当的核心设备，以是未来肯定是一个非常主要的行业的市场。
结语
国产光刻机从第四代ArF光刻机迈向第五代的ArFi浸润式光刻机，这紧张的难产点在于物镜系统的制造。
而现在物镜系统的制造离实现七纳米的芯片制程更是不远了。
