三星过去一贯利用非导电胶来垂直连接半导体。NCF 可在半导体之间形成一层耐用薄膜,从而防止芯片轻易波折。NCF 曾被用作支持 TSV 的关键材料,但也因难以处理、生产效率较低而不被认可。
宣布称三星电子操持在硅通孔(through-silicon electrode,TVS)加工过程中,引入利用 MUF 材料。

TVS 加工普通来说,便是在晶圆(Wafer)或者裸晶(Die)上穿出数千个小孔,实现硅片堆叠的垂直互连通道。而 MUF 便是高下连接,缩小半导体之间间隙的材料,有助于紧密凝固和结合各种垂直堆叠的半导体。

IT之家从宣布中获悉,三星电子已经能够从日本购买了 MUF 干系的设备,通过这一新变革,三星彷佛希望改进工艺并提高生产率。
SK Hynix 在第二代 HBM 之前也一贯利用 NCF,但从第三代(HBM2E)开始直接改用 MUF,特殊是采取 MR-MUF。
业界某干系人士表示:“MR-MUF 办法与 NCF 比较,导热率赶过 2 倍旁边,不仅对付工艺速率,还是良率等都有很大影响。”








