近期，成本市场对付光刻机的关注持续火热。此前受益于“光刻机”观点，张江高科（600895.SH，股价23.61元，市值365.65亿元）等多股连续上涨。
9月14日，随着苏大维格在互动易回答光刻机干系问题，“纳米压印”观点迅速火热。午后，苏大维格股价迅速拉升，并实现20%涨停。
彼时，苏大维格表示：“公司光刻机已实现向海内龙头芯片企业的发卖，并已实现向日本、韩国、以色列等国家的出口；同时，公司向海内干系芯片光刻机厂商供应了定位光栅尺部件。”
据苏大维格在互动易所述，其光刻机产品为激光直写光刻机。对付该类型光刻机的用场，《逐日经济新闻》9月15日咨询了与非网副主编夏珍，其表示：“据我所知，激光直写光刻机是用于掩膜版的制造，替代传统的铬玻璃掩膜版，具有灵巧性高的特点，与平常我们所说的光刻机不是一回事儿。”
9月15日早间，苏大维格便收到厚交所关注函。不过，截至午间收盘，苏大维格报37.47元/股，上涨13.13%。
此光刻机非彼光刻机
传统光刻机包括EUV（极紫外）光刻机、DUV（深紫外）光刻机。此外，更早也有i线和g线光刻机。上述均属于较为前辈的半导体光刻机。除了半导体用，光刻机也用于面板、PCB（印刷电路板）的制造中。
自苏大维格称已实现向海内龙头芯片企业的发卖后，有投资者也追问：“公司光刻设备比拟全天下同行业处于什么阶段？未来有没有和海内同行互助研发制造光刻机操持？”
对此，苏大维格阐明：“在大类上，光刻机紧张有两种类型。第一类是掩膜光刻机，如ASML的EUV设备，好比‘复印机’，把掩膜上的图形投射到硅片上，可用于各种芯片的批量生产，这类光刻机技能工艺和材料难度极高；第二类是无掩膜光刻机，也称直写光刻机，包括激光直写光刻机和电子束光刻机等，用于直接将数据转变成干系图形，好比‘打印机’，可用于芯片/液晶掩膜、光模具及其他微构造的制备。”
关注函中，厚交所也哀求苏大维格结合不同类型光刻设备的技能路线的差异，补充表露公司所生产光刻设备的详细类型、紧张客户及下贱用场、以及最近一年一期境内外发卖情形，并核实解释公司光刻设备是否能够直接用于芯片研发及制造、紧张技能参数是否与业内龙头厂商存在较大差距，并进一步提示干系风险。
在上述投资者关系平台回答中，苏大维格曾表示：“目前，公司对外发卖的光刻机紧张为激光直写光刻机，个中在科研教诲领域具有一定的有名度和市场霸占率，在其他行业和领域已实现的发卖金额相对较小，部分运用领域离国际前辈水平具有一定差距，须要持续的研发投入。”
“纳米压印”能否替代传统光刻？
除了光刻机的发卖信息，苏大维格9月14日还提及“纳米压印”技能。在回答“纳米压印技能有没有替代EUV光刻机的可能性”时，苏大维格称：“根据干系资讯，佳能等国际厂商拟试图通过纳米压印技能在部分集成电路领域替代EUV光刻设备实现更低本钱的芯片量产。”
此外，苏大维格也表示：“纳米压印光刻领域，公司设备紧张为自用，对外发卖金额与直写光刻机比较较小。”
也便是说，苏大维格对外发卖的光刻机紧张是直写光刻机，纳米压印紧张是自用。
那么，苏大维格自身拥有“纳米压印”技能吗？厚交所哀求其解释：“你公司纳米压印技能的详细用场、研发情形，以及在集成电路领域的布局情形，并充分提示干系风险。”
关于纳米压印技能能否替代EUV光刻机，夏珍向阐明：“纳米压印可潜在替代EUV、DUV。当DUV（技能）再往下走，日本厂商并没有选择EUV，而是采取了‘纳米压印’（Nanoimprint Lithography，NIL）技能，来开拓新一代的设备。纳米压印技能和现在市场上的光刻技能有所不同。基于光学的曝光机，也便是我们常说的光刻机，从Reticle（掩膜版）到晶圆是4：1的缩小比例，而纳米压印技能下的Reticle选用分外加工方法，从Reticle到晶圆是等比例的。这意味着只要Reticle能做到5nm，就能压印出5nm的东西。”
夏珍补充表示：“此外，采取纳米压印技能的本钱较低，低本钱紧张表示在两个方面，一是设备本身的本钱低，二是在利用的过程中用电量低。”
那么，纳米压印技能目前进展如何呢？夏珍先容：“目前基于纳米压印技能的设备还没量产，处于量产评价阶段，但从实验室的角度来看，已经实现了10+nm，未来将进一步拓展至5nm。”
逐日经济新闻
