佳能纳米压印光刻装配可制造5nm芯片 耗电量仅十分之一_压印_纳米

图源水印

据宣布，佳能公司的纳米压印技能具有出色的图案制造能力。
通过像盖章一样将纳米级别的图案刻在掩膜上，然后转印到晶圆上，该技能能够绘制出5纳米级半导体工艺所需的最小线宽为14纳米的电路图案。
这种能力使得纳米压印装置在制造繁芜图案时具有显著上风，由于纵然是繁芜的图案也可以在单次曝光中完成转印，从而大大简化了制造过程。

与此同时，佳能的纳米压印技能在能源花费方面表现出色。
与EUV曝光装置比较，纳米压印装置的耗电量仅为前者的十分之一。
这是由于纳米压印的制造工艺相对大略，不须要像EUV曝光那样利用高能耗的光源和繁芜的反射系统。
这种低能耗特性使得纳米压印技能在长期运行中具有更高的经济效益和环保上风。

此外，佳能的纳米压印技能还具有较低的本钱上风。
虽然详细的价格尚未公布，但由于纳米压印装置的构造相对大略，其制造本钱很可能低于EUV曝光装置。
这使得纳米压印技能在市场推广和遍及方面更具竞争力。