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专利择要显示,本发明涉及一种绝缘栅双极型晶体管构造及其制备方法。绝缘栅双极型晶体管构造的制备方法包括:供应基底,基底具有有源区、过渡区和终端区,且包括半导体衬底、栅介质材料层以及导电打仗材料层,栅介质材料层以及导电打仗材料层依次层叠形成在半导体衬底上;对导电打仗材料层进行图形化处理,形成导电打仗层,及在过渡区形成电荷开释通孔;至少于过渡区的电荷开释通孔底部形成栅介质增强层;于栅介质增强层上形成层间介质层,且对栅介质材料层进行图形化处理,形成栅介质层。本申请可以有效防止器件栅极泄电。
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